概述
Edwards STP用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子技术可实现一流的性能，最大的制程灵活性。STP 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
此 STP 泵在供货时带有入口筛网。
如需完整安装，请订购一台 STP 泵、一个控制器、一根连接电缆和一根电源电缆。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
先进的转子技术
最大的制程灵活性
无油
低振动
高度可靠
免维护
先进的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
技术参数
| STP301 | STP603 | STP1003C |
入口法兰 | ISO100，CF100 | ISO160F | ISO200F |
出口 | KF25 | KF40 | KF40 |
抽速 |
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N2 | 300 ls-1 | 650 ls-1 | 1000 ls-1 |
H2 | 300 ls-1 | 550 ls-1 | 800 ls-1 |
压缩比 |
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N2 | >108 | >108 | >108 |
H2 | >2 x 104 | >105 | >105 |
加热时的极限压力（VG/ISO 法兰） | 6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8Torr) | 6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr) | 10-7 Pa (10-9 Torr) |
加热时的极限压力（ICF 法兰） | 10-8 Pa (10-10 Torr) | 10-7 Pa (10-9 Torr) | 10-8 Pa (10-10 Torr) |
最大连续出口压力（环境空气冷却） | 13 Pa (0.1 Torr) | 13 Pa (0.1 Torr) | 13 Pa (0.1 Torr) |
额定速度 | 48000 rpm | 35000 rpm | 35000 rpm |
启动时间 | 3 min | 6 分钟 | 6 分钟 |
最高入口法兰温度 | 120 °C | 120 °C | 120 °C |
输入电压 | 100 至 120 (± 10%) V 交流或200 至 240 (± 10%) V 交流 | 100 至 120 (± 10) V 交流或200 至 240 (± 10) V 交流 | 100 至 120 (± 10) V 交流或至 240 (± 10) V 交流 |
启动时的功耗 | 0.55 kVA | 0.8 kVA | 0.8 kVA |
泵重量 | 11 kg | 31 kg | 31 kg |
控制器重量 | 7 kg | 9 kg | 9 kg |
